Elimination of trench defects and V-pits form InGaN/GaN structures
PBN-AR
Instytucja
Instytut Wysokich Ciśnień Polskiej Akademii Nauk
Źródłowe zdarzenia ewaluacyjne
Informacje podstawowe
Główny język publikacji
en
Czasopismo
Applied Physics Letters
ISSN
0003-6951
EISSN
1077-3118
Wydawca
AMER INST PHYSICS
DOI
URL
Rok publikacji
2015
Numer zeszytu
10
Strony od-do
101905
Numer tomu
106
Identyfikator DOI
Liczba arkuszy
0,60
Słowa kluczowe
en
III-V semiconductors
Multiple quantum wells
Dislocations
Surface structure
Epitaxy
Streszczenia
Język
en
Treść
The microstructural evolution of InGaN/GaN multiple quantum wells grown by metalorganic chemical vapor phase epitaxy was studied as a function of the growth temperature of the GaN quantum barriers (QBs). We observed the formation of basal stacking faults (BSFs) in GaN QBs grown at low temperature. The presence of BSFs terminated by stacking mismatch boundaries (SMBs) leads to the opening of the structure at the surface into a V-shaped trench loop. This trench may form above an SMB, thereby terminating the BSF, or above a junction between the SMB and a subsequent BSF. Fewer BSFs and thus fewer trench defects were observed in GaN QBs grown at temperatures higher than 830 °C. Further increase in the growth temperature of the GaN QBs led to the suppression of the threading dislocation opening into V-pits.
Cechy publikacji
discipline:Fizyka
discipline:Physics
Original article
Original article presents the results of original research or experiment.
Oryginalny artykuł naukowy
Oryginalny artykuł naukowy przedstawia rezultaty oryginalnych badań naukowych lub eksperymentu.
Inne
System-identifier
PBN-R:744184
CrossrefMetadata from Crossref logo
Cytowania
Liczba prac cytujących tę pracę
Brak danych
Referencje
Liczba prac cytowanych przez tę pracę
Brak danych