Structure of AlN films deposited by magnetron sputtering method
PBN-AR
Instytucja
Wydział Inżynierii Materiałowej (Politechnika Warszawska)
Źródłowe zdarzenia ewaluacyjne
Informacje podstawowe
Główny język publikacji
en
Czasopismo
Materials Science-Poland
ISSN
2083-1331
EISSN
Wydawca
DOI
URL
Rok publikacji
2015
Numer zeszytu
33
Strony od-do
639-643
Numer tomu
3
Identyfikator DOI
Liczba arkuszy
0,5
Inne
System-identifier
WUT2a97f62218064a9bb668eb36296403fa
CrossrefMetadata from Crossref logo
Cytowania
Liczba prac cytujących tę pracę
Brak danych
Referencje
Liczba prac cytowanych przez tę pracę
Brak danych