Low temperature electrodeposition of SiOx films photoactive in water solution
PBN-AR
Instytucja
Wydział Chemii (Uniwersytet Warszawski)
Informacje podstawowe
Główny język publikacji
en
Czasopismo
Electrochimica Acta
ISSN
0013-4686
EISSN
Wydawca
PERGAMON-ELSEVIER SCIENCE LTD
DOI
URL
Rok publikacji
2013
Numer zeszytu
Strony od-do
112-117
Numer tomu
108
Liczba arkuszy
Inne
System-identifier
507610
CrossrefMetadata from Crossref logo
Cytowania
Liczba prac cytujących tę pracę
Brak danych
Referencje
Liczba prac cytowanych przez tę pracę
Brak danych