Analysis of scattering mechanisms in zinc oxide films grown by the atomic layer deposition technique
PBN-AR
Instytucja
Wydział Matematyczno-Przyrodniczy.Szkoła Nauk Ścisłych (Uniwersytet Kardynała Stefana Wyszyńskiego w Warszawie)
Informacje podstawowe
Główny język publikacji
en
Czasopismo
Journal of Applied Physics
ISSN
0021-8979
EISSN
1089-7550
Wydawca
AMER INST PHYSICS
DOI
URL
Rok publikacji
2015
Numer zeszytu
3
Strony od-do
035706-035706
Numer tomu
118
Identyfikator DOI
Liczba arkuszy
Streszczenia
Język
en
Treść
In this work, the analysis of the temperature-dependent electrical conductivity of highly crystalline zinc oxide (ZnO) thin films obtained by the Atomic Layer Deposition (ALD) method is performed. It is deduced that the most important scattering mechanisms are: scattering by ionized defects (at low temperatures) as well as by phonons (mainly optical ones) at higher temperatures. Nevertheless, the role of grain boundaries in the carrier mobility limitation ought to be included as well. These conclusions are based on theoretical analysis and temperature-dependent Hall mobility measurements. The presented results prove that existing models can explain the mobility behavior in the ALD-ZnO films, being helpful for understanding their transport properties, which are strongly related both to the crystalline quality of deposited ZnO material and defects in its lattice. (C) 2015 AIP Publishing LLC.
Cechy publikacji
ORIGINAL_ARTICLE
Inne
System-identifier
662725
CrossrefMetadata from Crossref logo
Cytowania
Liczba prac cytujących tę pracę
Brak danych
Referencje
Liczba prac cytowanych przez tę pracę
Brak danych