Surface modification of the Ti6Al4V alloy with silicon carbonitride layer deposited by PACVD method
PBN-AR
Instytucja
Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki (Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie)
Informacje podstawowe
Główny język publikacji
EN
Czasopismo
High Temperature Materials and Processes
ISSN
0334-6455
EISSN
2191-0324
Wydawca
Walter De Gruyter GmbH
Rok publikacji
2014
Numer zeszytu
5
Strony od-do
391--398
Numer tomu
33
Link do pełnego tekstu
Identyfikator DOI
Liczba arkuszy
0.57
Słowa kluczowe
EN
scratch test
SiCxNy(H) layers
Ti6Al4V
PACVD method
Streszczenia
Język
EN
Treść
Four different layers of various silicon, carbon and nitrogen contents on the Ti6Al4V alloy and (001)Si wafers have been deposited by means of Plasma Assisted Chemical Vapor Deposition (PACVD) method. The layers were obtained from reactive gas mixture containing SiH4, CH4, NH3 and Ar. After deposition the structure and chemical composition of modified surfaces have been analyzed with use of SEM/EDS technique. Based on these results and thermodynamic calculations, the diffusion coefficients, D, for nitrogen and carbon in alloy were discussed. Scratch test shown that silicon carbonitride layers have good adhesion to metal surface. In order to determine atomic structure of obtained layers, FTIR spectra for layer-(001)Si and layer-Ti6Al4V were registered. © 2014 by Walter de Gruyter Berlin/Boston 2014.
Cechy publikacji
original article
peer-reviewed
Inne
System-identifier
idp:086093
CrossrefMetadata from Crossref logo
Cytowania
Liczba prac cytujących tę pracę
Brak danych
Referencje
Liczba prac cytowanych przez tę pracę
Brak danych