Surfaces modification of Al-Cu alloys by plasma-assisted CVD
PBN-AR
Instytucja
Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki (Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie)
Informacje podstawowe
Główny język publikacji
EN
Czasopismo
Diffusion and Defect Data. Solid State Data. Part B. Solid State Phenomena
ISSN
1012-0394
EISSN
1662-9779
Wydawca
Scitec Publications ; Trans Tech Publications
Rok publikacji
2013
Numer zeszytu
Strony od-do
496--501
Numer tomu
199
Link do pełnego tekstu
Liczba arkuszy
0.4
Autorzy
Pozostali autorzy
+ 1
Słowa kluczowe
EN
aluminum-copper alloys
PA MW CVD method
plasmochemical modification
Konferencja
Indeksowana w Scopus
tak
Indeksowana w Web of Science Core Collection
tak
Liczba cytowań z Web of Science Core Collection
Nazwa konferencji (skrócona)
MSM 2013
Nazwa konferencji
9th International Conference on Mechatronic Systems and Materials
Początek konferencji
2013-07-01
Koniec konferencji
2013-07-03
Lokalizacja konferencji
Vilnius
Kraj konferencji
LT
Lista innych baz czasopism i abstraktów w których była indeksowana
Streszczenia
Język
EN
Treść
Aluminum-copper alloys (Al-Cu) are nowadays widely used in various applications, mainly in automotive and aviation industry, because of their unique properties such as high strength, low density and good corrosion resistance. However, usages of aluminum alloys are partially limited due to their reduced hardness, wear resistance and poor tribological parameters. Desired useful parameters can be improved by application of PA CVD technology. This work presents the results concerning determination and analysis of the structure and the selected properties of the modified surfaces of Al-Cu alloys (2xxx series) that were prepared using plasma assisted MW CVD (Micro-Wave Chemical Vapour Deposition) method. To ensure effectiveness of the substrate modification process, the covered surface was subjected to pretreatment with argon plasma and/or nitriding process. In conclusion, the research has confirmed that the wear resistance of the Al-Cu alloy can be successfully modified by application of MW CVD technique. The obtained results can serve as a basis in the design of the technology of a-Si:C:N:H layers for diverse applications.
Cechy publikacji
original article
peer-reviewed
Inne
System-identifier
idp:075114
CrossrefMetadata from Crossref logo
Cytowania
Liczba prac cytujących tę pracę
Brak danych
Referencje
Liczba prac cytowanych przez tę pracę
Brak danych