Chemical stability of polymers under argon gas cluster ion beam and x-ray irradiation
PBN-AR
Instytucja
Wydział Fizyki i Informatyki Stosowanej (Akademia Górniczo-Hutnicza im. Stanisława Staszica w Krakowie)
Informacje podstawowe
Główny język publikacji
EN
Czasopismo
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B
ISSN
1071-1023
EISSN
Wydawca
A V S AMER INST PHYSICS
DOI
URL
Rok publikacji
2016
Numer zeszytu
3
Strony od-do
030604-1--030604-5
Numer tomu
34
Link do pełnego tekstu
Identyfikator DOI
Liczba arkuszy
0.35
Autorzy
Pozostali autorzy
+ 3
Streszczenia
Język
EN
Treść
In this work, the authors examine chemical stability of polymers under x-ray photoemission spectroscopy(XPS)depth profiling coupled with argon gas cluster ion sputtering. The depth profiles measured for polystyrene, poly(3-dodecylthiophene), and poly(methyl methacrylate) thin films do not reveal changes in the XPSspectra due to cluster bombardment. Nevertheless, x-ray irradiation influences the shape of the sputter craters. The observed features are attributed to cross-linking or chain scission occurring in the polymers.
Cechy publikacji
original article
peer-reviewed
Inne
System-identifier
idp:097291
CrossrefMetadata from Crossref logo
Cytowania
Liczba prac cytujących tę pracę
Brak danych
Referencje
Liczba prac cytowanych przez tę pracę
Brak danych