Development of REFET for Differential Measurements of pH in a Fluidic System
PBN-AR
Instytucja
Sieć Badawcza Łukasiewicz - Instytut Technologii Elektronowej
Informacje podstawowe
Główny język publikacji
en
Czasopismo
Przegląd Elektrotechniczny
ISSN
0033-2097
EISSN
Wydawca
WYDAWNICTWO SIGMA-N O T SP Z O O
DOI
Rok publikacji
2014
Numer zeszytu
Strony od-do
142-146
Numer tomu
90
Identyfikator DOI
Liczba arkuszy
Autorzy
Słowa kluczowe
en
REFET, ISFET, Reference electrode
pl
REFET, ISFET, elektroda referencyjna
Open access
Tryb otwartego dostępu
Otwarte czasopismo
Wersja tekstu w otwartym dostępie
Licencja otwartego dostępu
Czas opublikowania w otwartym dostępie
Streszczenia
Język
en
Treść
This paper describes the fabrication of the REFET structure by means of plasma oxidation of silicon nitride and discusses the results of differential pH measurements and quasi-REFET characterization. The source follower measurement circuit and housings for the fluidic systems are shown. The pH measurement of the diluted hydrochloric acidis presented as an exemplary application.
Język
pl
Treść
W pracy przedstawiono dotychczasowy rozwój technologii REFETów. Opisano wytwarzanie REFETa metodą utleniania plazmowego warstwy azotkowej. Zaprezentowano układ pomiarowy wtórnika źródłowego i obudowy przepływowe. Podano wyniki kwalifikacji kwazi-REFETów i różnicowych pomiarów pH. Zaproponowano zastosowanie przyrządu wraz z pseudoreferencyjną elektrodą Pt do pomiarów w rozcieńczonym HCl.
Cechy publikacji
ORIGINAL_ARTICLE
Inne
System-identifier
579687
CrossrefMetadata from Crossref logo
Cytowania
Liczba prac cytujących tę pracę
Brak danych
Referencje
Liczba prac cytowanych przez tę pracę
Brak danych