Fourier analysis of scratches generated on m-GaN substrates during polishing
PBN-AR
Instytucja
Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki (Politechnika Wrocławska)
Informacje podstawowe
Główny język publikacji
eng
Czasopismo
Crystal Research and Technology
ISSN
0232-1300
EISSN
Wydawca
DOI
URL
Rok publikacji
2015
Numer zeszytu
nr 3
Strony od-do
263-267
Numer tomu
vol. 50
Identyfikator DOI
Liczba arkuszy
Autorzy
Pozostali autorzy
+ 3
Słowa kluczowe
pol
GaN
proces polerowania
AFM
XRD
CMP
Inne
System-identifier
000197468
CrossrefMetadata from Crossref logo
Cytowania
Liczba prac cytujących tę pracę
Brak danych
Referencje
Liczba prac cytowanych przez tę pracę
Brak danych