Analysis of e-beam impact on the resist stack in e-beam lithography process
PBN-AR
Instytucja
Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki (Politechnika Wrocławska)
Książka
Tytuł książki
Electron Technology Conference 2013, 16-20 April 2013, Ryn, Poland
Data publikacji
2013
ISBN
9780819495211
Wydawca
SPIE
Publikacja
Główny język publikacji
eng
Tytuł rozdziału
Analysis of e-beam impact on the resist stack in e-beam lithography process
Rok publikacji
2013
Strony (od-do)
1-9
Numer rozdziału
Link do pełnego tekstu
Identyfikator DOI
Liczba arkuszy
0,6
Hasło encyklopedyczne
Autorzy
Słowa kluczowe
pol
litografia elektronowa
proces lift-off
dwuwarstwa rezystu
Konferencja
Indeksowana w Scopus
tak
Indeksowana w Web of Science Core Collection
tak
Liczba cytowań z Web of Science Core Collection
Nazwa konferencji (skrócona)
ELTE'2013
Nazwa konferencji
11th Conference on Electron Technology
Początek konferencji
2013-04-16
Koniec konferencji
2013-04-20
Lokalizacja konferencji
Ryn
Kraj konferencji
PL
Lista innych baz czasopism i abstraktów w których była indeksowana
Inne
System-identifier
000188435
CrossrefMetadata from Crossref logo
Cytowania
Liczba prac cytujących tę pracę
Brak danych
Referencje
Liczba prac cytowanych przez tę pracę
Brak danych