The new method of fabrication of submicron structures by optical lithography with mask shifting and mask rotation
PBN-AR
Instytucja
Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki (Politechnika Wrocławska)
Informacje podstawowe
Główny język publikacji
eng
Czasopismo
CENTRAL EUROPEAN JOURNAL OF PHYSICS
ISSN
1895-1082
EISSN
Wydawca
DOI
URL
Rok publikacji
2013
Numer zeszytu
nr 2
Strony od-do
219-225
Numer tomu
vol. 11
Identyfikator DOI
Liczba arkuszy
Słowa kluczowe
pol
litografia optyczna
litografia optyczna z przesunięciem maski
Inne
System-identifier
000185697