The EBL double step exposure technique for the fabrication of mushroom-like cross section pfile in bilayer resist system
PBN-AR
Instytucja
Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki (Politechnika Wrocławska)
Książka
Tytuł książki
2nd International Conference on Advances in Electronic and Photonic Technologies : proceedings of ADEPT, Tatranská Lomnica, High Tatras, Slovakia, June 1-4, 2014
Data publikacji
2014
ISBN
9788055408811
Wydawca
University of Žilina
Publikacja
Główny język publikacji
eng
Tytuł rozdziału
The EBL double step exposure technique for the fabrication of mushroom-like cross section pfile in bilayer resist system
Rok publikacji
2014
Strony (od-do)
9-12
Numer rozdziału
Link do pełnego tekstu
Identyfikator DOI
Liczba arkuszy
0.3
Hasło encyklopedyczne
Słowa kluczowe
pol
dwuwarstwa rezystu
T-kształtny fil
EBL
symulacje Monte-Carlo
model ekspozycji rezystu
Konferencja
Indeksowana w Scopus
nie
Indeksowana w Web of Science Core Collection
nie
Liczba cytowań z Web of Science Core Collection
Nazwa konferencji (skrócona)
Nazwa konferencji
2nd International Conference on Advances in Electronic and Photonic Technologies
Początek konferencji
2014-06-01
Koniec konferencji
2014-06-04
Lokalizacja konferencji
Tatranská Lomnica
Kraj konferencji
SK
Lista innych baz czasopism i abstraktów w których była indeksowana
Inne
System-identifier
000193060