Język
pl
Treść
W ramach niniejszej pracy zaprojektowano topografię nowego typu struktury laserowej SOI z krzemowym falowodem grzbietowym i wbudowaną diodą P-i-N pompowanej optycznie. Zestaw masek składa się z sześciu poziomów masek fotolitogra�icznych i charakteryzuje się wymiarem krytycznym ~2 μm.