Analysis of factors influencing the resolution of gate fabricated by photolitography technique
PBN-AR
Instytucja
Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki (Politechnika Wrocławska)
Książka
Tytuł książki
4th International Conference on Advances in Electronic and Photonic Technologies : proceedings of ADEPT, Tatranská Lomnica, High Tatras, Slovakia, June 20-23, 2016
Data publikacji
2016
ISBN
9788055412269
Wydawca
University of Žilina
Publikacja
Główny język publikacji
eng
Tytuł rozdziału
Analysis of factors influencing the resolution of gate fabricated by photolitography technique
Rok publikacji
2016
Strony (od-do)
223-226
Numer rozdziału
Link do pełnego tekstu
Identyfikator DOI
Liczba arkuszy
0,3
Hasło encyklopedyczne
Słowa kluczowe
pol
fotolitografia
HEMT
heterostruktura
AlGaN/GaN
Konferencja
Indeksowana w Scopus
nie
Indeksowana w Web of Science Core Collection
nie
Liczba cytowań z Web of Science Core Collection
Nazwa konferencji (skrócona)
ADEPT
Nazwa konferencji
4th International Conference on Advances in Electronic and Photonic Technologies
Początek konferencji
2016-06-20
Koniec konferencji
2016-06-23
Lokalizacja konferencji
Tatranská Lomnica
Kraj konferencji
SK
Lista innych baz czasopism i abstraktów w których była indeksowana
Inne
System-identifier
000204730