Relative Reflection Difference as a Method for Measuring the Thickness of the Exfoliated MoSe2 Layers
PBN-AR
Instytucja
Wydział Fizyki (Uniwersytet Warszawski)
Informacje podstawowe
Główny język publikacji
en
Czasopismo
ACTA PHYSICA POLONICA A (15pkt w roku publikacji)
ISSN
0587-4246
EISSN
1898-794X
Wydawca
Institute of Physics Polish Academy of Sciences
DOI
Rok publikacji
2017
Numer zeszytu
2
Strony od-do
316-318
Numer tomu
132
Link do pełnego tekstu
Identyfikator DOI
Liczba arkuszy
Streszczenia
Język
en
Treść
We propose a method for measuring the thickness of the exfoliated MoSe2 layers deposited on Si/SiO2 substrate, based on the reflectance measurements performed with laser light illumination at two different wavelengths: red and green from confocal microscope at room temperature. We demonstrate the correlation between the number of layers in a flake and the value of its relative reflection difference. We applied the transfer matrix method to calculate the reflectivity and verify our experimental results. The approach proposed by us allows for fast and automatic verification of the exfoliated MoSe2 layers thickness on large areas of the substrate.
Cechy publikacji
Fizyka
Physics
discipline:Fizyka
discipline:Physics
Original article
Original article presents the results of original research or experiment.
Oryginalny artykuł naukowy
Oryginalny artykuł naukowy przedstawia rezultaty oryginalnych badań naukowych lub eksperymentu.
Inne
System-identifier
PBN-R:839471
CrossrefMetadata from Crossref logo
Cytowania
Liczba prac cytujących tę pracę
Brak danych
Referencje
Liczba prac cytowanych przez tę pracę
Brak danych