Wyszukiwanie obejmuje jedynie prace już zarchiwizowane w Module Sprawozdawczym PBN.

Przetwarzanie...


Źródło
Rok publikacji
–
Typ
Filtruj
Sortowanie:
Tytuł
Tytuł
Rok
Rok
Najstarsza modyfikacja
Ostatnia modyfikacja
Artykuł PBN-AR
Dependence of the specific features of two PAPVD methods: Impulse Plasma Deposition (IPD) and Pulsed Magnetron Sputtering (PSM) on the structure of Fe-Cu alloy layers
10.1016/j.apsusc.2013.01.190
Zmodyfikowano: 13/03/2017 12:22:40 przez:
Autorzy
(liczba autorów: 5)
Roman Minikayev
R. Chodun
Robert Nietubyć
K. Nowakowska-Langier
K. Zdunek
Źródło
Applied Surface Science (segment A pozycja 984, 35 pkt.)
Rok
2013
Źródłowe Zdarzenia Ewaluacyjne
Dependence of the specific features of two PAPVD methods: Impulse Plasma Deposition (IPD) and Pulsed Magnetron Sputtering (PSM) on the structure of Fe-Cu alloy layers (zgłoszony przez Instytut Fizyki Polskiej Akademii Nauk)
Artykuł PBN-AR
DETERMINATION OF SP3 FRACTION IN ta-C COATING USING XPS AND RAMAN SPECTROSCOPY
Zmodyfikowano: 13/03/2017 12:46:39 przez:
Autorzy
(liczba autorów: 7)
R Chodun
Maciej MARCIN Klein
D Moszyński
Mirosław Sawczak
J Walkowicz
V Zavaleyev
K Zdunek
Źródło
Problems of Atomic Science and Technology (segment A pozycja 9724, 15 pkt.)
Rok
2016
Źródłowe Zdarzenia Ewaluacyjne
DETERMINATION OF SP3 FRACTION IN ta-C COATING USING XPS AND RAMAN SPECTROSCOPY (zgłoszony przez Wydział Fizyki Technicznej i Matematyki Stosowanej)
Artykuł PBN-AR
Electric field used as the substitute for ultrasounds in the liquid exfoliation of hexagonal boron nitride
10.1016/j.mee.2014.06.025
Zmodyfikowano: 10/03/2017 03:21:00 przez:
Autorzy
(liczba autorów: 8)
Piotr Sawosz
Stanisław Wojtkiewicz
R. Chodun
M. Kostecki
A. Olszyna
J. Rudnicki
A. Sokołowska
K. Zdunek,
Źródło
MICROELECTRONIC ENGINEERING (segment A pozycja 8439, 25 pkt.)
Rok
2014
Źródłowe Zdarzenia Ewaluacyjne
Electric field used as the substitute for ultrasounds in the liquid exfoliation of hexagonal boron nitride (zgłoszony przez Instytut Biocybernetyki i Inżynierii Biomedycznej im. Macieja Nałęcza Polskiej Akademii Nauk)
Artykuł PBN-AR
Structure of AlN films deposited by magnetron sputtering method
10.1515/msp-2015-0073
Zmodyfikowano: 21/11/2016 18:02:01 przez:
Autorzy
(liczba autorów: 5)
R. Chodun
Roman Minikayev
R. Nietubyc
K. Nowakowska-Langier
K. Zdunek
Źródło
Materials Science-Poland (segment A pozycja 8223, 15 pkt.)
Rok
2015
Źródłowe Zdarzenia Ewaluacyjne
Structure of AlN films deposited by magnetron sputtering method (zgłoszony przez Instytut Fizyki Polskiej Akademii Nauk)