×

Serwis używa ciasteczek ("cookies") i podobnych technologii m.in. do utrzymania sesji i w celach statystycznych. • Ustawienia przeglądarki dotyczące obsługi ciasteczek można swobodnie zmieniać. • Całkowite zablokowanie zapisu ciasteczek na dysku komputera uniemożliwi logowanie się do serwisu. • Więcej informacji: Polityka cookies OPI PIB

×

Regulamin korzystania z serwisu PBN znajduję się pod adresem: Regulamin serwisu

Szukaj wśród:
Dane publikacji

Ab initio study of Ga-GaN system: Transition from adsorbed metal atoms to a metal-semiconductor junction

Artykuł
Czasopismo : JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A   Tom: 33, Zeszyt: 6, Strony: 061101
Przemysław Witczak [1] , Paweł Kempisty [1] , Paweł Strąk [1] , Stanisław Krukowski [1] , [2]
2015-11 angielski
Liczba arkuszy: 1,4
Link do publicznie dostępnego pełnego tekstu
Identyfikatory
-
Cechy publikacji
-
  • Oryginalny artykuł naukowy
  • Zrecenzowana naukowo
Dyscypliny naukowe
-
Fizyka
Słowa kluczowe
-
Abstrakty ( angielski )
-
Ab initio studies of a GaN(0001)-Ga system with various thicknesses of a metallic Ga layer were undertaken. The studied systems extend from a GaN(0001) surface with a fractional coverage of gallium atoms to a Ga-GaN metal–semiconductor (m–s) contact. Electronic properties of the system are simulated using density functional theory calculations for different doping of the bulk semiconductor. It is shown that during transition from a bare GaN(0001) surface to a m–s heterostructure, the Fermi level stays pinned at a Ga-broken bond highly dispersive surface state to Ga–Ga states at the m–s interface. Adsorption of gallium leads to an energy gain of about 4 eV for a clean GaN(0001) surface and the energy decreases to 3.2 eV for a thickly Ga-covered surface. The transition to the m–s interface is observed. For a thick Ga overlayer such interface corresponds to a Schottky contact with a barrier equal to 0.9 and 0.6 eV for n- and p-type, respectively. Bond polarization-related dipole layer occurring due to an electron transfer to the metal leads to a potential energy jump of 1.5 eV, independent on the semiconductor doping. Additionally high electron density in the Ga–Ga bond region leads to an energy barrier about 1.2 eV high and 4 Å wide. This feature may adversely affect the conductivity of the n-type m–s system.
Zacytuj dokument
-